製品・技術紹介

実績

レクリエーション施設飲料水設備

レクリエーション施設飲料水設備

  • 納入場所: 福岡県
  • 納入時期: 2000年
  • 処理容量: 180m3/日
  • 処理前ヒ素濃度: 0.027mg/L
  • 処理後ヒ素濃度: 0.001mg/L未満

温泉保養所排水設備

温泉保養所排水設備

  • 納入場所: 長野県
  • 納入時期: 2001年
  • 処理容量: 10m3/日
  • 処理前ヒ素濃度: 0.72mg/L
  • 処理後ヒ素濃度: 0.005mg/L未満

温泉排水設備

温泉排水設備

  • 納入場所: 北海道
  • 納入時期: 2001年
  • 処理容量: 75m3/日
  • 処理前ヒ素濃度: 0.14mg/L
  • 処理後ヒ素濃度: 0.005mg/L未満

半導体工場排水設備

半導体工場排水設備

  • 納入場所: 広島県
  • 納入時期: 2002年
  • 処理容量: 320m3/日
  • 処理前ヒ素濃度: 0.05mg/L
  • 処理後ヒ素濃度: 0.005mg/L未満

小学校施設飲料水設備

小学校施設飲料水設備

  • 納入場所: 熊本県
  • 納入時期: 2003年
  • 処理容量: 40m3/日
  • 処理前ヒ素濃度: 0.012mg/L
  • 処理後ヒ素濃度: 0.002mg/L

商業施設飲料水設備

商業施設飲料水設備

  • 納入場所: 愛知県
  • 納入時期: 2004年 (2006年)
  • 処理容量: 100m3/日 (200m3/日)
  • 処理前ヒ素濃度: 0.014mg/L
  • 処理後ヒ素濃度: 0.01mg/L以下

浄水場

浄水場

  • 納入場所: 広島県
  • 納入時期: 2004年
  • 処理容量: 40m3/日
  • 処理前ヒ素濃度: 0.02mg/L
  • 処理後ヒ素濃度: 0.001mg/L未満

福祉施設飲料水設備

福祉施設飲料水設備

  • 納入場所: 佐賀県
  • 納入時期: 2004年
  • 処理容量: 62m3/日
  • 処理前ヒ素濃度: 0.02mg/L
  • 処理後ヒ素濃度: 0.001mg/L未満

機械装置気化ヒ素除去装置

機械装置気化ヒ素除去装置

  • 納入場所: 東京都
  • 納入時期: 2003年/2004年/2006年
  • 処理容量: 30m3/時
  • 処理前ヒ素濃度: 0.0017mg/L
  • ガス濃度

商業施設飲料水設備

商業施設飲料水設備

  • 納入場所: 鹿児島県
  • 納入時期: 2005年
  • 処理容量: 300m3/日
  • 処理前ヒ素濃度: 0.014mg/L
  • 処理後ヒ素濃度: 0.01mg/L以下

温泉宿泊排水設備

温泉宿泊排水設備

  • 納入場所: 宮城県
  • 納入時期: 2006年
  • 処理容量: 100m3/日
  • 処理前ヒ素濃度: 2.0mg/L
  • 処理後ヒ素濃度: 0.005mg/L未満